Формирование условий для развития науки – одна из первостепенных государственных задач. Действующий комплекс мер поддержки дополняется так, чтобы сократить путь от разработки до интеграции инноваций с высоким потенциалом, а также снизить бюрократическую нагрузку, наладить связь с коллективами, сообщает ТАСС.
Ученые рассчитывают, что бета-версия рентгеновского литографа для производства современных чипов может появиться в России уже через 5 лет. В ближайшие два года планируется разработка альфа-версии консорциумом организаций, в который входят ряд академических институтов и учреждений Росатома, а также частные инновационные компании, сообщил ТАСС в пятницу научный руководитель Национального центра физики и математики (НЦФМ, Саров, Нижегородская область) академик РАН Александр Сергеев в Уральском федеральном университете.
«Сначала идет разработка физического макета, так называемой альфа-машины, в котором на лабораторном столе демонстрируется работоспособность многочисленных узлов сложнейшего устройства. Бета-машина - это уже работающий на производство чипов прототип, собранный в единый комплекс, а в дальнейшем появляется тиражируемое коммерческое устройство. В этом году начнется создание альфа-машины, включающей все компоненты литографа: источник мягкого рентгеновского излучения на основе лазерной плазмы, систему рентгеновских зеркал для транспортировки и фокусировки излучения на фоторезисте, рентгеновские маски, систему позиционирования пластин. У нас в стране есть практически все компетенции, чтобы через пять лет появился отечественный прототип литографа с технологией на 28 нанометров», - сказал Сергеев.
